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企业资讯
真空镀膜设备基本技术要求
编辑:Admin  标签:  日期:2013-08-30 09:52:58
 1、设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合GB/T6070的规定。

2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管,分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时,应在测量口处安装电场屏蔽装置。
3、如果设备使用的主泵为扩散泵时,应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱
4、设备的镀膜室应设有观察窗,应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。
5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率,提高镀膜材料的利用率,合理匹配沉积源的功率,合理布置沉积源在真空室体的位置。
6、合理布置加热装置,一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。
7、工件架应与真空室体绝缘,工件架的设计应使工件膜层均匀
8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源,离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置,维持工作稳定
9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的大小,均按GB/T11164-1999中的4.4.6

1、环境温度:10-30oC
2、相对湿度:不大于75%
3、冷却水进水温度:不高于25oC
4、冷却水质:城市自来水或相当质量的水
5、供电电源:380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需要而定);电压波动范围:342-399V或198-231V;
频率波动范围:49-51Hz.
6、设备所需的压缩空气,液氮,冷水、热水等的压力、温度,消耗量等,均应在产品使用说明书中写明。
7、设备周围环境整洁,空气清洁,不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。